氟化铒采用氢氟酸沉淀-真空脱水法制备，需在真空度高于0.133Pa、温度不低于300℃条件下脱水，或用干燥氟化氢气流在600-650℃脱水，反应容器需采用耐腐蚀的镍基合金材料。主要应用于光学镀膜、光纤掺杂、激光晶体、单晶原料、激光放大器及催化助剂等领域，其中在250℃沉积条件下可获得折射率1.32、消光系数0.006的薄膜，适用于长波红外光学器件。氟化铒属6.1类危险品（UN 3288），接触酸会释放剧毒气体，操作需穿戴防护装备，安全标识为GHS06